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探討一下X射線輻照儀用于哪些治療

點(diǎn)擊次數(shù):3075 發(fā)布時(shí)間:2021-05-27
  X射線輻照儀的輻照室可容納廣泛的選項(xiàng)和配件,包括環(huán)境室,高通量鼠籠,麻醉系統(tǒng),固定裝置,電動(dòng)旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)。采用先進(jìn)的*屏蔽符合FDA標(biāo)準(zhǔn)的機(jī)柜。采用高容量的外部冷卻系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)的連續(xù)工作循環(huán)和保證長(zhǎng)的X射線管使用壽命。觸摸屏計(jì)算機(jī)操作系統(tǒng),使用權(quán)限和數(shù)據(jù)管理權(quán)限配置,帶有可移動(dòng)的數(shù)據(jù)庫(kù),數(shù)據(jù)庫(kù)自動(dòng)生成,方便的數(shù)據(jù)接口。
 
  X射線廣泛應(yīng)用于治療和評(píng)估,依據(jù)其生物效應(yīng),應(yīng)用不同能量的X射線對(duì)生物體的細(xì)胞、組織進(jìn)行照射,可使被照射的細(xì)胞、組織受到破壞或抑制,從而達(dá)到預(yù)期目的。
 
  X射線輻照儀通過(guò)人工電子裝置產(chǎn)生的高能X射線(160kV-350kV)對(duì)細(xì)胞或小動(dòng)物(清醒狀態(tài)和麻醉狀態(tài))進(jìn)行照射,從而用于干細(xì)胞(骨髓移植及分化,飼養(yǎng)層細(xì)胞制備、細(xì)胞誘變等)、DNA損傷、Cellcycle、細(xì)胞培養(yǎng)、血制品照射、腫瘤、信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)、免疫、基因治療、放射生物學(xué)、藥物研發(fā)等生物學(xué)輻照研究。具有安全性高、使用方便、可在普通實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下使用等優(yōu)點(diǎn)。
 
  在放射治療應(yīng)用中,通常利用的X射線能量范圍為90-300kV。50-150kV被稱為淺表X射線,超過(guò)90%的入射劑量造成的損傷集中在表面以下5mm深度內(nèi),通常用于治療皮下腫瘤;而200-500kV被稱為中電壓X射線,超過(guò)90%的劑量集中在表面以下2cm的深度內(nèi),通常用于深部腫瘤的治療。
 
  對(duì)于PX射線輻照儀,160kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌等及小鼠淺層照射,225kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌和組織器官的照射,也可用于小鼠大鼠的照射,320kV型是理想的小動(dòng)物照射應(yīng)用工具,即可對(duì)小鼠進(jìn)行照射也可用于大鼠。
 
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