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什么是我們所說(shuō)的壓鑄件X射線檢測(cè)呢
點(diǎn)擊次數(shù):4742 發(fā)布時(shí)間:2019-09-26
壓鑄件X射線檢測(cè)是用于分析各種問(wèn)題的重要的非破壞性工具之一,從流體到粉末和晶體。從研究到生產(chǎn)和工程,壓鑄件X射線檢測(cè)在材料特點(diǎn)分析和質(zhì)量控制中是一個(gè)*的方法。與學(xué)術(shù)界用戶、工業(yè)用戶合作開(kāi)發(fā)了一系列衍射儀,提供了技術(shù)先進(jìn)、靈活性強(qiáng)且性價(jià)比高的衍射解決方法。
壓鑄件X射線檢測(cè)是電磁波譜中的某特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的電磁波,其特性通常用能量(單位:千電子伏特,keV)和波長(zhǎng)(單位:鈉米,nm)描述。壓鑄件X射線檢測(cè)是原子內(nèi)產(chǎn)生變化所致的現(xiàn)象。一個(gè)穩(wěn)定的原子結(jié)構(gòu)由原子核及核外電子組成。這些核外電子圍繞著原子核按不同軌道運(yùn)轉(zhuǎn),它們按不同的能量分布在不同的電子殼層:分布在同一殼層的電子具有相同的能量。
當(dāng)具有高能量的入射(一次)X射線與原子發(fā)生碰撞時(shí),會(huì)打破原子結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。處于低能量電子殼層(如:K層)的電子更容易被激發(fā)而從原子中逐放出來(lái),電子的逐放會(huì)導(dǎo)致該電子殼層出現(xiàn)相應(yīng)的電子空位。這時(shí)處于高能量電子殼層的電子(如:L層)會(huì)躍遷到該低能量電子殼層來(lái)補(bǔ)充相應(yīng)的電子空位。由于不同電子殼層之間存在著能量差距,這些能量上的差以二次X射線的形式釋放出來(lái),不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線具有特定的能量特性。儀器通過(guò)探測(cè)不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線具有特定的能量特性,進(jìn)行分析計(jì)算得到各鍍層厚度,這一個(gè)過(guò)程就是我們所說(shuō)的壓鑄件X射線檢測(cè)。